Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography
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Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography
Shim, Seongbo; Shin, Youngsoo
Springer International Publishing AG
04/2018
138
Dura
Inglês
9783319762937
15 a 20 dias
3554
Descrição não disponível.
Introduction.- DSAL Manufacturability.- Placement Optimization for DSAL.- Placement Optimization for MP-DSAL Compliant Layout.- Redundant Via Insertion for DSAL.
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VLSI CAD for DSA;Physical Design for DSA;DSA-Friendly VLSI Design;DSA.Aware Placement;DSA-Aware Routing;DSA-Aware Mask Optimization;DSA-Aware OPC;DSA Verification;Multi-Patterning with DSA;Inverse DSA;Nanolithography;Computational Litography
Introduction.- DSAL Manufacturability.- Placement Optimization for DSAL.- Placement Optimization for MP-DSAL Compliant Layout.- Redundant Via Insertion for DSAL.
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